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22 Treffer

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    Optimizing Atomic Layer Deposition Processes with Nanowire‐Assisted TEM Analysis
    Schweizer, Peter ; Vogl, Lilian M. ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 11 (2024-05-01), Heft 13
    Online academicJournal
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    Low‐Temperature Atomic Layer Deposition Synthesis of Vanadium Sulfide (Ultra)Thin Films for Nanotubular Supercapacitors
    Zazpe, Raul ; Sepúlveda, Marcela ; et al.
    In: Small Structures, Jg. 5 (2024-04-01), Heft 4
    Online academicJournal
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    Highly Robust Atomic Layer Deposition‐Indium Gallium Zinc Oxide Thin‐Film Transistors with Hybrid Gate Insulator Fabricated via Two‐Step Atomic Layer Process for High‐Density Integrated All‐Oxide Vertical Complementary Metal‐Oxide‐Semiconductor Applications
    Kim, Dong-Gyu ; Choi, Su-Hwan ; et al.
    In: Small Structures, Jg. 5 (2024-02-01), Heft 2
    Online academicJournal
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    Wie komme ich dran?
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    Annealing‐Free Ohmic Contacts to n‐Type GaN via Hydrogen Plasma‐Assisted Atomic Layer Deposition of Sub‐Nanometer AlOx
    Christis, Maximilian ; Henning, Alex ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 11 (2024-02-01), Heft 4
    Online academicJournal
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    A Voltage‐Driven Transport Model to Identify Ion Migration as the Rate‐Limiting Step in Memristive Switching
    Jorge Luis Vazquez‐Arce ; Molina‐Reyes, Joel ; et al.
    In: Advanced Electronic Materials, Jg. 10 (2024), Heft 1
    Online academicJournal
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    Enhancing the Photocatalytic Activity by Tailoring an Anodic Aluminum Oxide Photonic Crystal to the Semiconductor Catalyst: At the Example of Iron Oxide
    Hedrich, Carina ; Burson, Anna R. ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 10 (2023-12-01), Heft 36
    Online academicJournal
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    Atomic Layer Deposition of Ru Thin Film Using a Newly Synthesized Precursor with Open‐Coordinated Ligands
    Seung Hoon Oh ; Jeong Min Hwang ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 10 (2023-06-01), Heft 17
    Online academicJournal
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    Improved Silicon Surface Passivation by ALD Al2O3/SiO2 Multilayers with In‐Situ Plasma Treatments
    Richter, Armin ; Patel, Hemangi ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 10 (2023-06-01), Heft 16
    Online academicJournal
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    Atomic Layer Deposition of Boron‐Doped Al2O3 Dielectric Films
    Li, Xinzhi ; Vehkamäki, Marko ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 10 (2023-06-01), Heft 18
    Online academicJournal
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Tunable Encapsulation and Doping of Monolayer MoS2 by In Situ Probing of Excitonic Properties During Atomic Layer Deposition
    Henning, Alex ; Levashov, Sergej ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 10 (2023-05-01), Heft 15
    Online academicJournal
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  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Substrate Effects on Growth Dynamics of WTe2 Thin films
    Hynek, David J. ; Onder, Elifnaz ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 10 (2023-04-01), Heft 11
    Online academicJournal
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    Ultrathin Al2O3 Protective Layer to Stabilize the Electrochromic Switching Performance of Amorphous WOx Thin Films
    Gies, Mario ; Benz, Sebastian L. ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 10 (2023-04-01), Heft 12
    Online academicJournal
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    MoS2 Synthesized by Atomic Layer Deposition as Cu Diffusion Barrier
    Johanna (Sanne) H. Deijkers ; deJong, Arthur A. ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 10 (2023-04-01), Heft 12
    Online academicJournal
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Electrochemical Lithium Insertion into TiO2 Anatase ALD Thin Films for Li‐Ion Microbatteries: An Atomic‐Scale Picture Provided by Raman Spectroscopy
    Bhatia, Ankush ; Hallot, Maxime ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 10 (2023-04-01), Heft 10
    Online academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    The Significance of an In Situ ALD Al2O3 Stacked Structure for p‐Type SnO TFT Performance and Monolithic All‐ALD‐Channel CMOS Inverter Applications
    Kim, Hye‐Mi ; Choi, Su‐Hwan ; et al.
    In: Advanced Electronic Materials, Jg. 9 (2023-04-01), Heft 4
    Online academicJournal
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Correlation between Surface Reactions and Electrochemical Performance of Al2O3‐ and CeO2‐Coated NCM Thin Film Cathodes
    Hemmelmann, Hendrik ; Ruess, Raffael ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 10 (2023-03-01), Heft 9
    Online academicJournal
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Ultrasensitive and Wide‐Range Flexible Hydrogen Sensor Based on Pd Nanoparticles Decorated Ultrathin SnO2 Film
    Ren, Qiang ; Zhang, Xin‐Yue ; et al.
    In: Advanced Electronic Materials, Jg. 9 (2023-03-01), Heft 3
    Online academicJournal
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Scalable Al2O3–TiO2 Conductive Oxide Interfaces as Defect Reservoirs for Resistive Switching Devices
    Li, Yang ; Wang, Wei ; et al.
    In: Advanced Electronic Materials, Jg. 9 (2023-02-01), Heft 2
    Online academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Reinforcement of Bonding Strength between Dental Y‐TZP and Resin via Nano‐Thin and Conformal SiO2 Films by Atomic Layer Deposition
    Yan, Yuxin ; Shu, Fei ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 10 (2023-02-01), Heft 5
    Online academicJournal
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Spatially‐Modulated Silicon Interface Energetics Via Hydrogen Plasma‐Assisted Atomic Layer Deposition of Ultrathin Alumina
    Henning, Alex ; Bartl, Johannes D. ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces, Jg. 10 (2023-02-01), Heft 6
    Online academicJournal
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