İzosiyanat İçermeyen Su Esaslı Poli (Hidroksi Üretan) Filmlerin Sentezi ve Kendini Onarma Özelliklerinin İncelenmesi.

This research aimed to develop water-soluble isocyanate-free poly(hydroxyl urethane) (PHU)s with phosgene-free, low-in-volatile organic compounds (VOCs) emission and analyze their self-healing properties. Disulfide bonds were introduced into the polymer backbone of PHUs to constitute the selfhealing capability. With a solid content of 30%, WSPHU dispersion was prepared without co-solvent. To form the network structure of WSPHUs, different ratios of hexakis methoxymethyl melamine (HMMM) were used. Transparent and thermally stable WSPHUs were developed by using different ratios of HMMM (2-8% by weight). The films were damaged with 180 grit sandpaper and kept at 80 oC in an oven. By using an optical microscope, it was observed that damaged films repaired themselves to varying degrees. According to the experimental results, HMMM ratio and extent of the damage (scratch thickness) significantly impact the self-healing abilities of the WSPHUs. This is a pioneering study in identifying the development of self-healing isocyanate-free WSPHUs for the future. [ABSTRACT FROM AUTHOR]

Bu araştırmada, fosgensiz ve düşük uçucu organik bileşik (UOB), (volatile organic compunds, VOCs) emisyonuna sahip izosiyanat içermeyen su esaslı poli(hidroksil üretan) (WPHU) filmlerin hazırlanması ve kendi kendini onarma özelliklerinin incelenmesi hedeflenmiştir. WSPHU'ların kendi kendini onarma yeteneği polimer ana zincirine disülfür bağları eklenmesiyle sağlanmıştır. %30 katı içeriğe sahip WSPHU dispersiyonu herhangi bir yardımcı çözücü olmadan sadece su ile hazırlanmıştır. WSPHU'ların ağ yapısını oluşturmak için hexakis metoksimetil melamin (HMMM) kullanılmıştır. Şeffaf görünümde ve ısıl olarak kararlı WSPHU filmler farklı oranlarda HMMM (ağırlıkça %2-8) kullanılarak hazırlanmıştır. 180 numara zımpara ile hasarlanan filmler etüvde 24 saat 80 oC'de bekletildikten sonra kendi kendini onarma özellikleri incelenmiştir. Optik mikroskopla yapılan gözlemler neticesinde hasarlı filmlerin kendi kendilerini farklı derecelerde onardığı görülmüştür. Deney sonuçlarına göre HMMM oranı ve hasarın büyüklüğü (çizik kalınlığı), WSPHU'ların kendi kendini onarma yetenekleri üzerinde önemli bir etkiye sahiptir. Filmdeki HMMM oranı %4'te çizik kalınlıkları da dikkate alındığında kendi kendini onarma performansı en iyidir. Mevcut çalışma, kendi kendini onaran izosiyanat içermeyen WSPHU'ların geliştirilmesi için öncü bir çalışma niteliğindedir. [ABSTRACT FROM AUTHOR]